IC Trouble shooting과 그 해결방법
 
 Troubleshooting 원인과 해결방안
 
 
 
 
증  상
 
원  인
 
해 결 방 안
 
 
Noisy Baseline
 
Pump Pulse
 
Pump Check
 
 
Flow Cell Bubble
 
solvent 탈기
 
 
Voltage 변동
 
Voltage 조절기 사용
 
 
Flow Cell 오염
 
Flow Cell 세척
 
 
Spike Baseline
 
Flow Cell 오염
 
Flow Cell 세척
 
 
Flow Cell leak
 
Flow Cell 교체
 
 
Flow Cell Bubble
 
Bubble 제거/solvent 탈기
 
 
Baseline 불규칙한 noise
 
실험실 온도 변화
 
실험실 온도 안정화시킴
 
 
Column 이상
 
Column 교체
 
 
과도한 Baseline drift
 
Temperature control 불안정
 
TEMP switch on
 
 
Cell heater 이상
 
Cell heater교체
 
 
실험실 온도 변화
 
실험실 온도 안정화시킴
 
 
Flow Cell bubble
 
Bubble 제거/ Solvent 탈기
 
 
solvent 바꿈
 
Column 안정화될때까지 기다림
 
 
Flow Cell leak
 
Flow Cell 교체
 
 
Detector not zeroed
 
Solvent 바꿈
 
Column 안정화될때까지 기다림
 
 
Flow Cell bubble
 
Bubble 제거/ Solvent 탈기
 
 
Negative baseline 계속됨
 
Tubing 에 불순물 존재
 
Column제거하고 용매로 유속 2ml/min으로 세척
 
 
높은 감도가 요구되는 분석에서 계속적인 Noise
 
Pump noise
 
Pump에 high sensitivity noise filter 장착
 
 기기 세척법
 
수용성 Buffer 용액은 유기 용매와 혼합시 염이 석출될 우려가 있다. 다음과 같은 세척법이 필요하다.
 
  ◈ 높은 이온강도의 Buffer 용액에서 유기 용매로 변환시에는 초순수로 전 system에 흘려서 Buffer 용액을 세척한 후 유기용매로 바꾼다
◈ 높은 이온 강도의 Buffer 용액 사용시에는 system를 끄기 전에 초순수로 전 system을 세척하고 만약 1일 이상 system을 사용하지 않을 시에는 10% methanol로 흘려준다.
 
 Reservior Filter 세척법 
 
  ◈ Stainless Steel filter - 6 N Nitric acid (HNO3) 로 5-10분간 sonication한다
◈ Non metallic filter - Methanol로 flush한다.